質(zhì)量控制

LAYERTEC大力保證當前和未來產(chǎn)品的質(zhì)量。

我們的測量設(shè)備用于監(jiān)督基材和鍍膜生產(chǎn)。

例如我們定期測量

•表面形式

•表面粗糙度/整理質(zhì)量

•光譜透射和反射率

•光譜相和GDD（如果適用）

•使用帶OPO光源的寬帶腔衰減設(shè)置，在寬波長范圍內(nèi)實現(xiàn)反射率測量

•某些波長和脈沖長度的損傷閾值測量

精密光學測量工具

LAYERTEC的精密光學設(shè)備配有用于平面和球面曲面的干涉儀。具有λ/ 20（633nm）平坦度的平面襯底和形式公差為λ/ 10（633nm）的球形襯底可以提供干涉測量方案。

LAYERTEC還采用高性能Fizeau干涉儀和Twyman-Green干涉儀，在以下測量范圍內(nèi)對大光學元件進行形狀公差測量：

平面：

•大∅= 300mm

•測量精度：λ/ 100（546nm）的平坦度

球面：

•高∅= 500mm，a

•測量精度：λ/ 50（546nm）的形狀公差

原子力顯微鏡（AFM）是一種有用的儀器，用于表征平均厚度小于5埃的非常光滑的表面。 LAYERTEC有一個AFM來控制特殊的拋光過程，并根據(jù)要求提供檢驗協(xié)議。

鍍膜測量工具

LAYERTEC的檢測程序包括在120nm和20μm之間的波長范圍內(nèi)的涂覆光學器件的分光光度測量。使用PERKIN ELMER分光光度計Lambda950®，Lambda750®和Lambda19®進行190nm3200nm波長范圍內(nèi)的標準分光光度測量。對于超出該波長范圍的測量，LAYERTEC配備了FTIR光譜儀（λ=1μm...20μm）和VUV光譜儀（λ= 120nm ... 240nm）。

通過腔衰減時間光譜測量R = 99.9 ... 99.9995％的高反射率。實際上LAYERTEC配有各種CRDS測量系統(tǒng)，可用于355nm1064nm的波長范圍。此外，還提供了一種新穎的寬帶CRDS設(shè)置，可以提供在220nm和2300nm之間的范圍內(nèi)的低損耗反射鏡的反射率的測量。

LAYERTEC配備了具有ns脈沖的266nm，355nm，532nm和1064nm的LIDT測量設(shè)置。

Fraunhofer研究所IOF Jena和激光中興漢諾威公司也與光電技術(shù)研究所（Jena）合作，測量光學薄膜和散裝材料的吸收和散射損耗以及激光損傷閾值測量。

Fizeau Interferometer (SOLITON MiniFIZ 300)

Interferometer (OptoTech®)

Atomic Force Microscope (DI Nanoscope®)

Spectrophotometer

Cavity Ring-Down Setup

GDD-Measurement Setup